刻蚀机和光刻机的区别
1、工艺不同：刻蚀机是将硅片上多余的部分腐蚀掉，光刻机是将图形刻到硅片上；2、难度不同：光刻机的难度和精度大于刻蚀机。
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1、工艺不同：刻蚀机是将硅片上多余的部分腐蚀掉，光刻机是将图形刻到硅片上；2、难度不同：光刻机的难度和精度大于刻蚀机。